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        濺鍍 TiN

        發布時間: 2022-12-27 作者: 分享到:
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        大連創碩表面處理來為大家詳細介紹一下濺鍍 TiN


        之前介紹過TiN氮化鈦涂層,但有些伙伴發現不用設備做出的TiN表面狀態不同。就和大家分享一下,濺鍍TiN。

        濺鍍,通常指的是磁控濺鍍,屬于高速低溫濺鍍法。


               TiN氮化鈦PVD涂層,常用的PVD 鍍膜技術有磁控濺射技術和電弧離子鍍技術。不同的鍍膜技術制備出來的氮化鈦涂層性能、形制也有所不同。具體區別:

          一、沉積速率

        磁控濺射的沉積速率通常遠小于電弧離子鍍,為了保 證涂層厚度,磁控濺射技術制備氮化鈦涂層時會延長鍍膜時間。

        二、表面形貌

        電弧離子鍍制備的Ti N氮化鈦涂層表面通常會有許多白亮色的大顆粒。而磁控濺射技術沉積的氮化鈦涂層成膜質量良好,表面平整、致密。

        三、微觀結構

        磁控濺射方法制備的TiN氮化鈦涂層呈結晶態,不施加偏壓時只能觀測到微弱的氮化鈦(220)峰,間接反映出偏壓對沉積速率存在一定影響。偏壓高時,離子所攜帶的能量高,沉積速率快;而偏壓為0 V時,氮化鈦涂層的(111)峰因厚度太小、衍射強度過低而無法觀測到。

        電弧離子鍍制備的氮化鈦涂層樣品厚度較厚,因而XRD衍射結果中可以明顯觀察到來自涂層的衍射峰,分析結果表明氮化鈦涂層具有面心立方(fcc)結構。

        四、力學性能

        力學性能主要包括表面硬度和彈性模量。

        磁控濺射技術制備的彈性模量遠低于電弧離子鍍,這是因為電弧離子鍍離化率高,涂層沉積時離子所攜帶的能量平均值高。高能離子在沉積過程中對先前生長的涂層具有轟擊作用,可以有效改善涂層的微觀組織結構,從而有效提高涂層硬度。


         總體來說,濺鍍TiN氮化鈦涂層表面平整、致密,但沉積速率與硬度均低于電弧離子鍍制備的涂層。在實際生產時,我們要根據自身需求選擇合適的鍍膜技術。


        涂層—大連創碩表面處理


        【全文完】

        標簽:

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